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【2h】

Practical Control of Multipactor Threshold and Insertion Losses on RF Satellite Devices and Study of Secondary Electron Emission for Multipactor and Electron Cloud Mitigation

机译：射频卫星装置多反应器门限和插入损耗的实际控制及多反应器和电子云缓解的二次电子发射研究

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Tesis doctoral inédita leída en la Universidad Autónoma de Madrid, Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 17-07-2015

机译：未发表的博士学位论文在马德里自治大学理学院应用物理系阅读。阅读日期：2015年7月17日

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作者
González Gómez, Luis Antonio;
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作者单位

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年度 2015
总页数
原文格式 PDF
正文语种 eng
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1. Electron bunching from a dc-biased, single-surface multipactor with realistically broad energy spectrum and emission angle of secondary electrons [J] . Shin D., Jeon S.-G., Kim J.-I., Physics of plasmas . 2012,第2期

机译：来自直流偏置的单表面多极电子的电子束聚，具有现实的宽能谱和二次电子的发射角
2. Modeling micro-porous surfaces for secondary electron emission control to suppress multipactor [J] . J. M. Sattler, R. A. Coutu Jr., R. Lake, Journal of Applied Physics . 2017,第5期

机译：模拟微孔表面以控制二次电子发射以抑制多峰效应
3. Effect of emission velocity spread of secondary electrons in two-sided multipactor [J] . Sazontov A, Buyanova M, Semenov V, Physics of plasmas . 2005,第5期

机译：双面多重电子中二次电子的发射速度分布的影响
4. Engineered surfaces to control secondary electron emission for multipactor suppression [C] . James M. Sattler, Ronald A. Coutu, Robert A. Lake, Proceedings of the 2016 IEEE National Aerospace and Electronics Conference . 2016

机译：工程化表面可控制二次电子发射，从而抑制多峰效应
5. Controlling interchain interactions in conjugated polymers: Studies of the physical and electronic properties of PPV-derivatives for application in plastic optoelectronic devices. [D] . Nguyen, Thuc-Quyen Thai. 2002

机译：控制共轭聚合物中的链间相互作用：研究PPV衍生物在塑料光电器件中的物理和电子性质。
6. Au Doping Effect on the Secondary Electron Emission Performance of MgO Films [O] . Jie Li, Wenbo Hu, Kang Wang, 2018

机译：金掺杂对MgO薄膜二次电子发射性能的影响
7. Modeling micro-porous surfaces for secondary electron emission control to suppress multipactor [O] . J. M. Sattler, R. A. Coutu, R. Lake, 2017

机译：用于二次电子排放控制的微多孔表面，以抑制多移膜
8. Engineered Surfaces to Control Secondary Electron Yield for Multipactor Suppression. [R] . Sattler, J. 2017

机译：工程曲面控制多重抑制器的二次电子产率。

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